(UFI)極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡

簡(jiǎn)要描述：UltraFast Innovations (UFI)極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡
設(shè)計(jì)用于65eV（19nm）下的 330 阿秒脈沖
具有38%峰值反射率的多層鍍膜
≤1Å 表面粗糙度超拋光基底
另外提供專為 13.5nm 設(shè)計(jì)的極紫外（EUV）平面反射鏡和極紫外（EUV）球面反射鏡
備有現(xiàn)貨庫(kù)存
無(wú)最小起訂量、無(wú)鍍膜批次費(fèi)用

基礎(chǔ)信息

產(chǎn)品型號(hào)

UltraFast Innovations

廠商性質(zhì)

經(jīng)銷商

更新時(shí)間

2025-01-22

瀏覽次數(shù)

833

產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

反射鏡

柱狀反射鏡紅外反射鏡超快激光反射鏡啁啾反射鏡和高色散反射鏡離軸拋物面反射鏡反射平晶

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超寬帶互補(bǔ)啁啾反射鏡對(duì)的作用及設(shè)計(jì)原理

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詳細(xì)介紹

品牌	Edmund Optics

UltraFast Innovations (UFI)極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡通用規(guī)格:

直徑 (mm):

25.40 ±0.13

基底:

Fused Silica (Corning 7980)

后表面:

Commercial Polish

涂層規(guī)格:

Rs > 38% @ 65eV/19nm

涂層:

EUV Multilayer (19nm)

入射角 (°):

有效孔徑 (%):

設(shè)計(jì)波長(zhǎng) DWL (nm):

邊緣:

Fine Ground

表面粗糙度（埃）:

Center Energy (eV):

65 ±2

Bandwidth (eV):

Supported Pulse Duration:

330 attoseconds

邊緣厚度 ET (mm):

6.35 ±0.20

產(chǎn)品編碼	Dia. (mm)	表面平整度 (P-V)	基底
16-765	25.40 ±0.13	λ/10	Fused Silica (Corning 7980)
16-766	25.40 ±0.13		Fused Silica (Corning 7980)
16-767	25.40 ±0.13		Fused Silica (Corning 7980)

UltraFast Innovations (UFI)的極紫外光(EUV/XUV)阿秒多層反射鏡設(shè)計(jì)用于阿秒脈沖的轉(zhuǎn)向、聚焦和整形。他們的多層膜中心位于65eV（19nm），帶寬為6eV（1.8nm），為 S 偏振光提供38%的峰值反射率。這些反射鏡支持持續(xù)時(shí)間為330阿秒的極紫外（EUV）脈沖。 UFI極紫外（EUV/XUV）阿秒反射鏡是基于高次諧波（HHG）、自由電子激光器（FEL）或其他量子光學(xué)應(yīng)用產(chǎn)生和整形阿秒脈沖的理想選擇。

UltraFast Innovations (UFI)極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡原子般精密的離子束沉積可以獲得原子般光滑的鍍膜。這些反射鏡能夠在不斷增長(zhǎng)的應(yīng)用空間中高效精確地控制波長(zhǎng)和光譜相位。亞秒科學(xué)突破了超快激光器的極限，提供了接觸一些最基本的科學(xué)過(guò)程的機(jī)會(huì)，如：電子的運(yùn)動(dòng)。極紫外（EUV）反射鏡也被稱為XUV/軟X射線反射鏡。極紫外（EUV）阿秒多層反射鏡背后的物理原理是來(lái)自多層膜堆疊的每個(gè)界面反射和散射 EUV 輻射的干涉?？商峁┲睆綖?5.4mm的平面反射鏡和凹面反射鏡；如果您的應(yīng)用需要定制中心能量、帶寬或其他規(guī)格的極紫外（EUV）多層反射鏡，請(qǐng)與我們聯(lián)系。